光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩（掩模版）轉移到待加工基片上。依據使用場景，這里的待加工基片可以是集成電路材料，顯示面板材料或者印刷電路板。

 

超聲波噴涂系統(tǒng)已被證明可用于需要均勻，可重復的感光材料（光刻膠或聚酰亞胺薄膜）涂層的各種應用。厚度控制范圍從亞微米到100微米以上，并且能夠涂覆任何形狀或尺寸。

 

高均勻性和均一性

 

微流噴涂，多種液體進料方案

 

高液體利用率